膜厚仪的原理及选择

膜厚仪的原理及选择

        除了精密的测量仪器二次元与三坐标之外，在测量薄膜厚度时，我们还会经常的使用一种仪器，就是膜厚仪。

　    膜厚仪又叫膜厚计、膜厚测试仪，可分为磁感应镀层测厚仪、电涡流镀层测厚仪与荧光X射线仪镀层测厚仪。 它的主要测量方法是采用磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。

　    磁性测厚法的膜厚仪是一种超小型测量仪，它能快速，无损伤，地进行铁磁性金属基体上的喷涂。电镀层厚度的测量。可广泛用于制造业，金属加工业，化工业，商检等检测领域。特别适用于工程现场测量。

　    二次荧光法的测厚仪的原理是物质经X射线或粒子射线照射后，由于吸收多余的能量而变成不稳定的状态。从不稳定状态要回到稳定状态，此物质必需将多余的能量释放出来，而此时是以荧光或光的形态被释放出来。荧光X射线镀层厚度测量仪或成分分析仪的原理就是测量这被释放出来的荧光的能量及强度，来进行定性和定量分析。

　    膜厚仪的选择

　    首先取决于你所测产品的结构。如果只是简单的涂层，铜箔使用普通的膜厚仪就可以解决了。如果测电镀层的厚度，而且具有几层镀层，那么就要使用x-射线膜厚仪。单镀层厚度大于0.5um的还可以采用金相法观察。